Runway ja Baseten julkistivat 14. lokakuuta yhteistyön, jonka myötä Runwayn generatiivisia videomalleja voidaan suorittaa yrityksille varatuissa laskentaympäristöissä.
Gen-4.5 muodostaa videota tekstistä ja kuvista, kun taas Aleph 2.0 keskittyy olemassa olevan videomateriaalin muokkaamiseen. Yrityksille voidaan tarjota myös mahdollisuus mallien hienosäätöön omilla aineistoilla.
Ratkaisu kiinnostaa elokuvastudioita, mainostoimistoja ja peliyhtiöitä, jotka käsittelevät julkaisemattomia kohtauksia tai omia visuaalisia aineistojaan. Eristetty ympäristö lisää hallintaa laskentaan ja aineistojen käsittelyyn.
Yhteistyö ei tarkoita mallien yleistä avointa julkaisua. Käyttö perustuu yrityskohtaisiin sopimuksiin, joiden kustannuksia ei ole tässä riippumattomasti vahvistettu.
